Собянин сообщил о создании в Москве уникального оборудования для микросхем

Он отметил, что всего в мире менее 10 стран способны самостоятельно производить такое оборудование для микросхем, и Россия теперь в их числе. Создание фотолитографа стало важным шагом к обеспечению страны собственным производством микроэлектроники и технологической независимости. Устройство разработано в сотрудничестве с белорусским заводом, обладающим обширным опытом в этой области. Глава города отметил, что новая установка отличается от зарубежных аналогов использованием твердотельного лазера вместо ртутной лампы, что делает ее более мощной, энергоэффективной и долговечной. Уже найден заказчик на российский фотолитограф, и специалисты работают над его адаптацией к потребностям производства. Кроме того, в России ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нм, планируется завершить работы к 2026 году. Согласно Собянину, оборот высокотехнологичных производств Москвы увеличился вдвое к концу 2024 года, благодаря производству различного оборудования и электроники.